GVC-1000全自动离子溅射仪


GVC-1000 全自动离子溅射仪主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作,同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。

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  GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作,同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。GVC系列为您提供优质的样品制备,轻松助您取得更好地材料研究样品, 获得高质量的显微镜观测效果。

  GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)性能参数
  1、离子溅射仪工作原理:磁控溅射
  2、可选靶材:金,铂,金钯合金,铅,银,铜,铬,锑等
  3、真空室:φ128×100高硅硼玻璃
  4、全自动操作,简单易用,非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等
  (1)溅射电流自动调整——设定溅射电流后,系统自动调节真空度,从而达到设定的溅射电流,调整时间<5s,波动范围<±5%;
  (2)无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”。
  (3)溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可;
  (4)参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长,系统自动计算叠加,无需终止溅射过程;
  (5)工作完成自动放气;
  (6)样品台高度调节1秒完成;
  (7)溅射过程可以利用曲线显示,清晰直观。
  (8)极限真空:小于1Pa
  5、软硬件互锁,防误操作,安全可靠
  (1)真空度高于100Pa,启动真空保护,无法溅射;
  (2)溅射电流高于50mA,停止溅射过程;
  (3)真空泵工作时,系统无法进行放气操作;
  6、镀层均匀,导电性良好。

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