GVC-2000磁控离子溅射仪


GVC-2000磁控离子溅射仪颗粒更小,更适宜于高倍图像观测,适配场发射/高分辨场发射电镜;低压大电流溅射,效率更高。

描述

GVC-2000磁控离子溅射仪(镀金仪)特点

  1. 基本无温升、样品表面无热损失

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      GVC-2000制样效果图                                          其他制样设备效果图

上面两张图片为滤膜类样品的电镜图片,左侧图片为GVC-2000喷金后的电镜观测图,可以看出,样品形貌真实完整,右侧图片为其他设备喷金后的电镜观测图片,可以看出,热损伤严重,几乎无法识别为同种样品。

  1. 颗粒更小,更适宜于高倍图像观测,适配场发射/高分辨场发射电镜

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                                            金颗粒尺寸:6~10nm

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陶瓷膜,镀层材料Pt,10万倍图片,无颗粒感   滤膜材料,镀层材料Pt,20万倍图片,无颗粒感

  1. 低压大电流溅射,效率更高
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