GVC-2000手套箱专用磁控溅射仪


GVC-2000手套箱专用磁控溅射仪(手套箱专用离子溅射仪)自动化程序控制,一键式操作,让镀膜更加高效。该设备采用触摸控制,外置泵组设计,采用平面磁控溅射靶设计,从而使试样在热效应最小的条件下得到最有效的溅射效果,常用于锂电池电极防氧化研究中。

描述

  GVC-2000手套箱专用磁控溅射仪(手套箱专用离子溅射仪)自动化程序控制,一键式操作,让镀膜更加高效。该设备采用触摸控制,外置泵组设计,采用平面磁控溅射靶设计,从而使试样在热效应最小的条件下得到最有效的溅射效果,常用于锂电池电极防氧化研究中。
  一、手套箱专用离子溅射仪技术参数
  1、输入电压:AC220V±10%,50Hz
  2、工作电压:DC2400V
  3、最大功率(主机与机械泵):500W
  4、工作原理:磁控溅射
  5、工作环境:温度 5~40℃,湿度<60%
  6、存储环境:温度-10~60℃,湿度<80%
  7、真空泵:两级直联旋片式真空泵 1L/s
  8、整机尺寸(长×宽×高):424×271×255(mm)
  9、重量(主机):11 kg
  10、真空腔:φ128×130mm
  11、样品杯:φ90×1 / φ25×4 / φ15×6
  12、工作气体:Air / Ar
  13、保护功能:过流、真空双保护
  14、可选靶材:金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属
  二、手套箱专用离子溅射仪主要特点
  1、可用于纯氩、纯氮环境,使样品免受氧气、水蒸气或其他污染。
  2、助力新型电池研究
  3、提供全套解决方案及交钥匙服务。

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