GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪


高真空磁控离子溅射仪集成化了 LCD 触摸显示屏操作界面,有利于实际操作。外界机械泵(随附)可完成迅速真空泵,进而为大部分规范SEM剖析给予充足的涂层晶体规格。

描述

全自动知识产品

没有热损伤,效率更高,颗粒度更细,更适合高分辨电镜

镀金仪应用领域

1、高分辨扫描电镜样品制备(实际放大倍数≥100K)

2、电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极

高真空磁控离子溅射仪(镀金仪)配置与技术参数

名称&型号 高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T
真空系统 涡轮分子泵(进口 ):德国莱宝90i (单磁悬浮分子泵,抽速为90L/s)
旋片式真空泵:浙江飞越VRD-4 (抽速为 1 .1L/s)
真空测量 全量程复合真空规(进口):1.0E5Pa-1E-4Pa
系统极限真空 ≤5E-3Pa
溅射电源 磁控溅射电源,最大功率150W
可用靶材 所有金属靶材,ITO靶材
溅射电压 300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化
溅射电流 0-200mA连续可调,步长5mA
溅射时间 0-9999s, 连续可调步长1s
操作界面 7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480
操作方式 一键操作
抽气节拍 <15分钟
控制方式 只需设定溅射电流和时间即可,全自动控制
具备预溅射挡板(预溅射时间可设定),全自动控制
保护功能 软硬件互锁、防止误操作,具备电流、真空保护等
样品台直径 φ125mm,可自转,可自动手动控制,转速4-40rpm可调
真空室 高硅硼玻璃,规格尺寸约φ200×130mm
电源供电 220V 50Hz 最大功率800W
尺寸&重量 重量 424(长) ×345(深) ×420mm(高)、 25 kg (净重)
冷却方式 内部风冷
选配 样品台选择、膜厚控制、温度监测等

镀膜样品示例:

     银.jpg   钨.jpg   铬.jpg

             靶材-银                           靶材-钨                           靶材-铬

     镍.jpg   钒.jpg   锡.jpg

              靶材-镍                         靶材-钒                           靶材-锡        

     铜.jpg    钽.jpg   铁.jpg 

             靶材-铜                              靶材-钽                        靶材-贴 

     钛.jpg     铅.jpg    钼.jpg

               靶材-钛                         靶材-铅                            靶材-钼

     铝.jpg      铂.jpg    金.jpg

            靶材-铝                               靶材-铂                               靶材-金

     锆.jpg       铒.jpg    ITO.jpg

              靶材-锆                               靶材-铒                        靶材-ITO

江苏超合金股份 | 注塑加工 | 深圳信息技术 |