GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪


描述

产品优势:

可制备各种金属、 单质、 无机非金属薄膜

不破真空情况下, 可实现多层复合膜制备

一键操作, 全自动控制, 智能化程度高

一致性、 重复性好

内置多重靶材工作参数, 无需摸索镀膜工艺

体积小, 结构紧凑, 非常节约空间

 

产品参数:

外形尺寸(主机)

424(L)×345(D)×420(H)

输入电源

220V/50Hz    1000W

溅射靶头 1

直流磁控溅射

可用靶材

金属靶材

溅射靶头 2

射频磁控溅射

可用靶材

无机非金属靶材

真空系统

涡轮分子泵+旋片式真空泵

抽速

90L/s + 1.1L/s

真空测量

复合式真空规

量程范围

1E-3 ~ 1E5Pa

真空室

φ 200×130mm 高硼硅玻璃

抽气节拍

10 分钟(≤5E-3Pa)

样品台尺寸

φ 90mm

样品台切换

自动控制

溅射靶材尺寸

φ 57mm(厚度 0.1-2mm)

工作真空

0.1-2Pa

操作界面

7 英寸 TFT 触摸式液晶屏

操作语言

中文(可选其它语言)

冷水机

小型台式制冷机

冷水机功率

180W

预溅射挡板

标配全自动控制预溅射挡板

 

膜厚仪(选配)

可实时显示镀膜厚度,并通过设定来控制镀膜过程,测量精度 0.01nm,设定精度 0.1nm,单次设定范围 1-999nm

温控组件(选配)

样品台加热模块 300℃/500℃

旋转组件(选配)

倾斜旋转、行星旋转等

小车(选配)

将主机、射频电源、冷水机等组装在一起,整体性好

安装环境

220V/10A 三孔插座一个、纯度 4N 及以上的高纯氩气(出口压力 0.12MPa)

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